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Injection of point defects during annealing of low energy...

Materials Science and Engineering: B 2005 Vol. 124-125; Iss. none

Injection of point defects during annealing of low energy As implanted silicon

C. Tsamis, D. Skarlatos, V. Valamontes, D. Tsoukalas, G. BenAssayag, A. Claverie, W. Lerch
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Volume:
124-125
Année:
2005
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.mseb.2005.08.123
Fichier:
PDF, 223 KB
english, 2005
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