Gate stress effect on low temperature data retention...

Microelectronics Reliability 2005 Vol. 45; Iss. 9-11

Gate stress effect on low temperature data retention characteristics of split-gate flash memories

Ling-Chang Hu, An-Chi Kang, Eric Chen, J.R. Shih, Yao-Feng Lin, Kenneth Wu, Ya-Chin King
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Volume:
45
Année:
2005
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/j.microrel.2005.07.016
Fichier:
PDF, 380 KB
english, 2005
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