Electrical properties of TiO2-based MIM capacitors...

Microelectronic Engineering 2011 Vol. 88; Iss. 7

Electrical properties of TiO2-based MIM capacitors deposited by TiCl4 and TTIP based atomic layer deposition processes

Boris Hudec, Kristína Hušeková, Aivar Tarre, Jeong Hwan Han, Sora Han, Alica Rosová, Woongkyu Lee, Aarne Kasikov, Seul Ji Song, Jaan Aarik, Cheol Seong Hwang, Karol Fröhlich
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Volume:
88
Année:
2011
Langue:
english
Pages:
3
DOI:
10.1016/j.mee.2011.03.059
Fichier:
PDF, 408 KB
english, 2011
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