Deprotection kinetic monitoring of a 193 nm...

Microelectronic Engineering 2008 Vol. 85; Iss. 5-6

Deprotection kinetic monitoring of a 193 nm positive tone resist by ellipsometry

H. Ridaoui, J.H. Tortai, S. Derrough, C. Sourd, H. Trouve, A. Pikon
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Volume:
85
Année:
2008
Langue:
english
Pages:
3
DOI:
10.1016/j.mee.2008.01.044
Fichier:
PDF, 247 KB
english, 2008
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