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[IEEE 2006 14th International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors - Kyoto (2006.10.10-2006.10.13)] 2006 14th IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors - Cobalt Silicide Formation Characteristics in a Single Wafer Rapid Thermal Furnace (SRTF) System

Malik, Igor J., Ouaknine, Michel, Ueda, Takeshi, Fukada, Takashi, Yoo, Woo Sik, Erbetta, Davide, Marangon, Tina

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Année:

2006

Langue:

english

DOI:

10.1109/rtp.2006.368005

Fichier:

PDF, 1.51 MB

english, 2006

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