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Electrical endpoint detection of VLSI contact plasma...

IEEE Electron Device Letters 1984 / 12 Vol. 5; Iss. 12

Electrical endpoint detection of VLSI contact plasma etching

Chang, G., McVittie, J.P., Walker, J.T., Dutton, R.W.
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Volume:
5
Langue:
english
Journal:
IEEE Electron Device Letters
DOI:
10.1109/edl.1984.26009
Date:
December, 1984
Fichier:
PDF, 357 KB
english, 1984
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