A two-step low pressure chemical vapour deposition process...

A two-step low pressure chemical vapour deposition process for the production of tungsten metal thin films

Baxter, David V., Chisholm, Malcolm H., Chuang, Shiow-Huey
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Année:
1998
Langue:
english
Journal:
Chemical Communications
DOI:
10.1039/a802202j
Fichier:
PDF, 41 KB
english, 1998
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué