Boron Profile Narrowing in Laser-Processed Silicon after...

Journal of The Electrochemical Society 2004 Vol. 151; Iss. 1

Boron Profile Narrowing in Laser-Processed Silicon after Rapid Thermal Anneal

Poon, Chyiu Hyia, Tan, Leng Seow, Cho, Byung Jin, See, Alex, Bhat, Mousumi
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Volume:
151
Année:
2004
Langue:
english
Journal:
Journal of The Electrochemical Society
DOI:
10.1149/1.1633764
Fichier:
PDF, 368 KB
english, 2004
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