Effect of Ti doping on Ta2O5 stacks with Ru and Al gates

Applied Surface Science 2008 Vol. 254; Iss. 18

Effect of Ti doping on Ta2O5 stacks with Ru and Al gates

A. Paskaleva, M. Tapajna, E. Atanassova, K. Frohlich, A. Vincze, E. Dobročka
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Volume:
254
Année:
2008
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1016/j.apsusc.2008.03.076
Fichier:
PDF, 845 KB
english, 2008
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