Formation of silicon on plasma synthesized SiOxNy and...

Applied Surface Science 2005 Vol. 243; Iss. 1-4

Formation of silicon on plasma synthesized SiOxNy and reaction mechanism

Ming Zhu, Xuejie Shi, Peng Chen, Weili Liu, Man Wong, Chenglu Lin, Paul K. Chu
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Volume:
243
Année:
2005
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1016/j.apsusc.2004.09.056
Fichier:
PDF, 309 KB
english, 2005
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