Soft Breakdown in Ultrathin SiO 2...

Japanese Journal of Applied Physics 1999 / 4 Vol. 38; Iss. Part 1, No

Soft Breakdown in Ultrathin SiO 2 Layers: the Conduction Problem from a New Point of View

Miranda, Enrique, Suñé, Jordi, Rodríguez, Rosana, Nafría, Montserrat, Martín, Ferran, Aymerich, Xavier
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Volume:
38
Langue:
english
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/jjap.38.2223
Date:
April, 1999
Fichier:
PDF, 115 KB
english, 1999
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