Characterization of Inductively-Coupled RF Plasma Sources...

Japanese Journal of Applied Physics 2006 / 10 Vol. 45; Iss. 10B

Characterization of Inductively-Coupled RF Plasma Sources with Multiple Low-Inductance Antenna Units

Takenaka, Kosuke, Setsuhara, Yuichi, Nishisaka, Kazuaki, Ebe, Akinori, Sugiura, Shinya, Takahashi, Kazuo, Ono, Koichi
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Volume:
45
Langue:
english
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.45.8046
Date:
October, 2006
Fichier:
PDF, 170 KB
english, 2006
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