Polycycloalkanes as Potential Third-Generation Immersion...

Chemistry of Materials 2007 / 07 Vol. 19; Iss. 15

Polycycloalkanes as Potential Third-Generation Immersion Fluids for Photolithography at 193 nm

López-Gejo, Juan, Kunjappu, Joy T., Zhou, J., Smith, B. W., Zimmerman, Paul, Conley, Will, Turro, Nicholas J.
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
19
Langue:
english
Journal:
Chemistry of Materials
DOI:
10.1021/cm0701660
Date:
July, 2007
Fichier:
PDF, 375 KB
english, 2007
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué