Annealing behavior of phosphorus in native oxide films on...

Annealing behavior of phosphorus in native oxide films on heavily phosphorus doped silicon

W.B. Ying, Y. Mizokawa, Y.B. Yu, Y. Kamiura, M. Iida, K. Kawamoto
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
100-101
Année:
1996
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/0169-4332(96)00338-8
Fichier:
PDF, 392 KB
english, 1996
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué