Deposition and study of CVD—tungsten and molybdenum thin...

Deposition and study of CVD—tungsten and molybdenum thin films and their impact on microelectronics technology

K.A. Gesheva, T.A. Krisov, U.I. Simkov, G.D. Beshkov
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Volume:
73
Année:
1993
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/0169-4332(93)90150-a
Fichier:
PDF, 312 KB
english, 1993
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