UV annealing of low temperature photodeposited SiO2 films...

Applied Surface Science 1992 Vol. 54; Iss. none

UV annealing of low temperature photodeposited SiO2 films with a new powerful lamp source

C. Debauche, C. Licoppe, C. Meriadec, F. Sartoris, J. Flicstein
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Volume:
54
Année:
1992
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/0169-4332(92)90083-a
Fichier:
PDF, 311 KB
english, 1992
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