Defect centers in chemical-mechanical polished MOS oxides

Microelectronic Engineering 1995 Vol. 28; Iss. 1-4

Defect centers in chemical-mechanical polished MOS oxides

M.R. Shaneyfelt, W.L. Warren, D.L. Hetherington, R.P. Timon, P.J. Resnick, P.S. Winokur
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Volume:
28
Année:
1995
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/0167-9317(95)00018-4
Fichier:
PDF, 332 KB
english, 1995
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