Near-Field Lithography by Two-Photon Induced Photocleavage...

Advanced Functional Materials 2010 Vol. 20; Iss. 24

Near-Field Lithography by Two-Photon Induced Photocleavage of Organic Monolayers

Marta Álvarez, Andreas Best, Andreas Unger, José M. Alonso, Aránzazu del Campo, Marcus Schmelzeisen, Kaloian Koynov, Max Kreiter
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
20
Année:
2010
Langue:
english
Pages:
8
DOI:
10.1002/adfm.201000939
Fichier:
PDF, 1.04 MB
english, 2010
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué