VHF SiH4/H2 plasma characteristics with negative ions

Surface and Coatings Technology 2013 / 08 Vol. 228

VHF SiH4/H2 plasma characteristics with negative ions

Yamane, Tsukasa, Nakao, Sachiko, Takeuchi, Yoshiaki, Yamauchi, Yasuhiro, Takatsuka, Hiromu, Muta, Hiroshi, Uchino, Kiichiro, Kawai, Yoshinobu
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Volume:
228
Langue:
english
Journal:
Surface and Coatings Technology
DOI:
10.1016/j.surfcoat.2012.05.036
Date:
August, 2013
Fichier:
PDF, 458 KB
english, 2013
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