Chemical vapor deposition of TiSi2 using SiH4 and TiCl4

M.A. Mendicino, R.P. Southwell, E.G. Seebauer

Avez-vous aimé ce livre?

Quelle est la qualité du fichier téléchargé?

Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité

Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?

Volume:

253

Année:

1994

Langue:

english

Pages:

DOI:

10.1016/0040-6090(94)90369-7

Fichier:

PDF, 479 KB

english, 1994

La conversion en est effectuée

La conversion en a échoué