Isotopic study of oxygen diffusion in silicon dioxide thin films
D.A. Gulino, L.A. Kren, T.M. DeverVolume:
188
Année:
1990
Langue:
english
Pages:
10
DOI:
10.1016/0040-6090(90)90286-m
Fichier:
PDF, 419 KB
english, 1990