High rate deposition of MoSi2 films by selective...

Thin Solid Films 1984 Vol. 118; Iss. 2

High rate deposition of MoSi2 films by selective co-sputtering

Shigeru Kobayashi, Masao Sakata, Katsuo Abe, Tsuneaki Kamei, Osamu Kasahara, Hidetsugu Ohgishi, Kensuke Nakata
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Volume:
118
Année:
1984
Langue:
english
Pages:
10
DOI:
10.1016/0040-6090(84)90064-6
Fichier:
PDF, 593 KB
english, 1984
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