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A novel two-step etching process for reducing...

A novel two-step etching process for reducing plasma-induced oxide damage

Kuo-Feng You, Ching-Yuan Wu
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Volume:
39
Année:
1996
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/0038-1101(95)00155-7
Fichier:
PDF, 427 KB
english, 1996
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