Interfacial thermal stability and band alignment of...

Journal of Alloys and Compounds 2014 / 04 Vol. 591

Interfacial thermal stability and band alignment of Al2O3/HfO2/Al2O3/Si gate stacks grown by atomic layer deposition

Wei, H.H., He, G., Chen, X.S., Cui, J.B., Zhang, M., Chen, H.S., Sun, Z.Q.
Avez-vous aimé ce livre?
Quelle est la qualité du fichier téléchargé?
Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité
Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?
Volume:
591
Langue:
english
Journal:
Journal of Alloys and Compounds
DOI:
10.1016/j.jallcom.2013.12.152
Date:
April, 2014
Fichier:
PDF, 1.85 MB
english, 2014
La conversion en est effectuée
La conversion en a échoué