Influence of Ar/Kr ratio and pulse parameters in a Cr-N...

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 2014 / 03 Vol. 32; Iss. 2

Influence of Ar/Kr ratio and pulse parameters in a Cr-N high power pulse magnetron sputtering process on plasma and coating properties

Bobzin, Kirsten, Bagcivan, Nazlim, Theiß, Sebastian, Trieschmann, Jan, Brugnara, Ricardo Henrique, Preissing, Sven, Hecimovic, Ante
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Volume:
32
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
DOI:
10.1116/1.4865917
Date:
March, 2014
Fichier:
PDF, 5.27 MB
english, 2014
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