Nitridation of atomic-layer-deposited HfO2/Al2O3 stacks by...

Thin Solid Films 2013 / 2 Vol. 529

Nitridation of atomic-layer-deposited HfO2/Al2O3 stacks by NH3 annealing

Liu, Jian-Shuang, Geng, Yang, Chen, Lin, Sun, Qing-Qing, Zhou, Peng, Lu, Hong-Liang, Zhang, David Wei
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Volume:
529
Langue:
english
Journal:
Thin Solid Films
DOI:
10.1016/j.tsf.2012.03.066
Date:
February, 2013
Fichier:
PDF, 798 KB
english, 2013
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