Low-temperature deposition of diamond using chloromethane...

Diamond and Related Materials 1993 / 3 Vol. 2; Iss. 2-4

Low-temperature deposition of diamond using chloromethane in a hot-filament chemical vapor deposition reactor

Hong, Franklin Chau-Nan, Hsieh, Jing-Chuang, Wu, Jih-Jen, Liang, Gou-Tsau, Hwang, Jen-Haw
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Volume:
2
Langue:
english
Journal:
Diamond and Related Materials
DOI:
10.1016/0925-9635(93)90084-F
Date:
March, 1993
Fichier:
PDF, 787 KB
english, 1993
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