High rate low pressure plasma-enhanced chemical vapor...

Thin Solid Films 2013 / 04 Vol. 532

High rate low pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition for barrier and optical coatings

Günther, Steffen, Fahland, Matthias, Fahlteich, John, Meyer, Björn, Straach, Steffen, Schiller, Nicolas

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Volume:

532

Langue:

english

Journal:

Thin Solid Films

DOI:

10.1016/j.tsf.2012.11.150

Date:

April, 2013

Fichier:

PDF, 1.51 MB

english, 2013

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