The hydrogen content of plasma-deposited silicon nitride

Journal of Applied Physics 1978 Vol. 49; Iss. 4

The hydrogen content of plasma-deposited silicon nitride

Lanford, W. A., Rand, M. J.
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Volume:
49
Année:
1978
Langue:
english
Journal:
Journal of Applied Physics
DOI:
10.1063/1.325095
Fichier:
PDF, 626 KB
english, 1978
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