Sputtering yield of vapor-deposited TiC films by low energy...

Sputtering yield of vapor-deposited TiC films by low energy deuterium ions

Tatsuo Shikama, J. Bohdansky
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Volume:
152
Année:
1988
Langue:
english
Pages:
3
DOI:
10.1016/0022-3115(88)90344-3
Fichier:
PDF, 267 KB
english, 1988
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