Growth morphology of low-pressure metalorganic chemical...

Journal of Crystal Growth 1995 Vol. 155; Iss. 3-4

Growth morphology of low-pressure metalorganic chemical vapor deposition silicon carbide on a-SiO2Si(100) substrates

J. Rodríguez-Viejo, J. Stoemenos, N. Clavaguera, M.T. Clavaguera-Mora
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Volume:
155
Année:
1995
Langue:
english
Pages:
9
DOI:
10.1016/0022-0248(95)00196-4
Fichier:
PDF, 776 KB
english, 1995
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