High-k (k=30) amorphous hafnium oxide films from high rate...

Applied Physics Letters 2011 Vol. 98; Iss. 25

High-k (k=30) amorphous hafnium oxide films from high rate room temperature deposition

Li, Flora M., Bayer, Bernhard C., Hofmann, Stephan, Dutson, James D., Wakeham, Steve J., Thwaites, Mike J., Milne, William I., Flewitt, Andrew J.
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Volume:
98
Année:
2011
Langue:
english
Journal:
Applied Physics Letters
DOI:
10.1063/1.3601487
Fichier:
PDF, 620 KB
english, 2011
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