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The impact of gate dielectric materials on the...

Applied Physics Letters 2010 Vol. 97; Iss. 18

The impact of gate dielectric materials on the light-induced bias instability in Hf–In–Zn–O thin film transistor

Kwon, Jang-Yeon, Jung, Ji Sim, Son, Kyoung Seok, Lee, Kwang-Hee, Park, Joon Seok, Kim, Tae Sang, Park, Jin-Seong, Choi, Rino, Jeong, Jae Kyeong, Koo, Bonwon, Lee, Sang Yoon
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Volume:
97
Année:
2010
Langue:
english
Journal:
Applied Physics Letters
DOI:
10.1063/1.3513400
Fichier:
PDF, 1.17 MB
english, 2010
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