Investigation of Pattern Effects in Rapid Thermal...

IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 2010 Vol. 23; Iss. 2

Investigation of Pattern Effects in Rapid Thermal Processing Technology: Modeling and Experimental Results

Cacho, F., Bono, H., Beneyton, R., Dumont, B., Bianchini, R., Colin, A., Fiori, V., Morin, P.
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Volume:
23
Année:
2010
Langue:
english
DOI:
10.1109/tsm.2010.2045614
Fichier:
PDF, 1.20 MB
english, 2010
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