The mechanisms of ion beam modification of PMMA for dry...

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 1987 Vol. 19-20; Iss. part-P2

The mechanisms of ion beam modification of PMMA for dry etch development ion beam lithography

M.I.J. Beale, C. Broughton, A.J. Pidduck, V.G.I. Deshmukh
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Volume:
19-20
Année:
1987
Langue:
english
DOI:
10.1016/s0168-583x(87)80198-2
Fichier:
PDF, 4.23 MB
english, 1987
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