Highly Efficient Surface Relief Formation via Photoembossing of a Supramolecular Polymer
Ko Hermans, Itsuro Tomatsu, Michael Matecki, Rint P. Sijbesma, Cees W. M. Bastiaansen, Dirk J. BroerVolume:
209
Année:
2008
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1002/macp.200800355
Fichier:
PDF, 537 KB
english, 2008