Defect re-distribution in amorphous silicon below...

Journal of Non-Crystalline Solids 2000 Vol. 266-269; Iss. part-P1

Defect re-distribution in amorphous silicon below equilibration temperature

R.A.C.M.M van Swaaij, V Nádazdy, M Zeman, E Pincik, J.W Metselaar
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Volume:
266-269
Année:
2000
Langue:
english
DOI:
10.1016/s0022-3093(99)00845-5
Fichier:
PDF, 112 KB
english, 2000
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