Titanium film deposition by high-power impulse magnetron...

Titanium film deposition by high-power impulse magnetron sputtering: Influence of pulse duration

F.J. Jing, T.L. Yin, K. Yukimura, H. Sun, Y.X. Leng, N. Huang
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Volume:
86
Année:
2012
Langue:
english
DOI:
10.1016/j.vacuum.2012.06.003
Fichier:
PDF, 765 KB
english, 2012
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