The structure and electrical properties of HfTaON high-k...

Applied Surface Science 2012 Vol. 258; Iss. 7

The structure and electrical properties of HfTaON high-k films prepared by DIBSD

Tao Yu, Chenggang Jin, Xumin Yang, Yaojun Dong, Haiyan Zhang, Lanjian Zhuge, Xumei Wu, Zhaofeng Wu
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Volume:
258
Année:
2012
Langue:
english
Pages:
2959
DOI:
10.1016/j.apsusc.2011.11.015
Fichier:
PDF, 1.02 MB
english, 2012
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