Impact of Millisecond Flash-Assisted Rapid Thermal...

IEEE Transactions on Electron Devices 2011 Vol. 58; Iss. 9

Impact of Millisecond Flash-Assisted Rapid Thermal Annealing on SiGe Heterostructure Channel pMOSFETs With a High-/Metal Gate

Se-Hoon Lee, Majhi, P., Ferrer, D.A., Pui-Yee Hung, Huang, J., Oh, J., Wei-Yip Loh, Sassman, B., Byoung-Gi Min, Hsing-Huang Tseng, Harris, R., Bersuker, G., Kirsch, P.D., Jammy, R., Banerjee, S.K.
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Volume:
58
Année:
2011
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1109/ted.2011.2159862
Fichier:
PDF, 964 KB
english, 2011
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