Impact of interfacial layer on low-frequency noise of...

Impact of interfacial layer on low-frequency noise of HfSiON dielectric MOSFETs

Bigang Min, Devireddy, S.P., Celik-Butler, Z., Shanware, A., Colombo, L., Green, K., Chambers, J.J., Visokay, M.R., Rotondaro, A.L.P.

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Volume:

Année:

2006

Langue:

english

Pages:

DOI:

10.1109/ted.2006.874759

Fichier:

PDF, 342 KB

english, 2006

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