Thermally robust HfN metal as a promising gate electrode...

Thermally robust HfN metal as a promising gate electrode for advanced MOS device applications

HongYu Yu, Ming-Fu Li, Dim-Lee Kwong
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Volume:
51
Année:
2004
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1109/ted.2004.825110
Fichier:
PDF, 453 KB
english, 2004
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