A new contact plug technique for deep-submicrometer ULSI is...

IEEE Transactions on Electron Devices 1993 Vol. 40; Iss. 2

A new contact plug technique for deep-submicrometer ULSI is employing selective nickel silcidation of polysilicon with a titanium nitride stopper

Iijima, T., Nishiyama, A., Ushiku, Y., Ohguro, T., Kunishima, I., Suguro, K., Iwai, H.
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Volume:
40
Année:
1993
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1109/16.182516
Fichier:
PDF, 782 KB
english, 1993
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