Investigation of BF2+ implants in silicon through SiO2...

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 1996 Vol. 120; Iss. 1-4

Investigation of BF2+ implants in silicon through SiO2 films Redistribution of fluorine and boron under rapid thermal annealing

L. Kaabi, C. Gontrand, M. Lemiti, B. Remaki, B. Balland, J. Meddeb, O. Marty
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Volume:
120
Année:
1996
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/s0168-583x(96)00481-8
Fichier:
PDF, 588 KB
english, 1996
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