Dry etching of TiN in N2/Cl2/Ar adaptively coupled plasma

Vacuum 2011 Vol. 86; Iss. 4

Dry etching of TiN in N2/Cl2/Ar adaptively coupled plasma

Dong-Pyo Kim, Jong-Chang Woo, Kyu-Ha Baek, Kun-Sik Park, Kijun Lee, Kwang-Soo Kim, Lee-Mi Do
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Volume:
86
Année:
2011
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/j.vacuum.2011.08.002
Fichier:
PDF, 995 KB
english, 2011
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