Degradation and breakdown characteristics of Al/HfYOx/GaAs...

Thin Solid Films 2012 Vol. 520; Iss. 7

Degradation and breakdown characteristics of Al/HfYOx/GaAs capacitors

E. Miranda, C. Mahata, T. Das, J. Suñé, C.K. Maiti
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Volume:
520
Année:
2012
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/j.tsf.2011.10.036
Fichier:
PDF, 709 KB
english, 2012
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