Evaluations of intrinsic time dependent dielectric...

Thin Solid Films 2011 Vol. 520; Iss. 1

Evaluations of intrinsic time dependent dielectric breakdown of dielectric copper diffusion barriers

Larry Zhao, Melina Lofrano, Kristof Croes, Els Van Besien, Zsolt Tőkei, Christopher J. Wilson, Robin Degraeve, Thomas Kauerauf, Gerald P. Beyer, Cor Claeys
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Volume:
520
Année:
2011
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/j.tsf.2011.08.073
Fichier:
PDF, 1.14 MB
english, 2011
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