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Technological variation in the earliest Oldowan from Gona,...

Technological variation in the earliest Oldowan from Gona, Afar, Ethiopia

Dietrich Stout, Sileshi Semaw, Michael J. Rogers, Dominique Cauche
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Volume:
58
Année:
2010
Langue:
english
Pages:
18
DOI:
10.1016/j.jhevol.2010.02.005
Fichier:
PDF, 2.02 MB
english, 2010
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