Simulation of doping of deep trenches by ion implantation

Simulation of doping of deep trenches by ion implantation

S. Saler, R. Kassing, R. Kakoschke
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Volume:
44
Année:
1990
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1016/0168-583x(90)90008-i
Fichier:
PDF, 606 KB
english, 1990
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