Co, Fe, and Ti Implants in InGaAs and Co Implants in InP at...

Journal of Electronic Materials 1992 / 09 Vol. 21; Iss. 9

Co, Fe, and Ti Implants in InGaAs and Co Implants in InP at 200° C

Mulpuri V. Rao, Sadanand M. Gulwadi, Savitri Mulpuri, David S. Simons, Peter H. Chi, C. Caneau, W-P. Hong, O. W. Holland, Harry B. Dietrich
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Volume:
21
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1007/bf02665550
Date:
September, 1992
Fichier:
PDF, 581 KB
english, 1992
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